集成电路光刻-刻蚀协同工艺
在集成电路芯片制造中，光刻工艺作为图案转移的核心技术，通过精密的光学与化学过程将掩模上的电路设计逐层复制至晶圆表面，其技术演进始终围绕分辨率提升与工艺稳定性优化展开。
光刻
无视禁令？向中国出口浸润式光刻机，外媒：ASML把事闹大了
ASML是荷兰那边的公司，专做光刻机这玩意儿，在芯片制造里头可是核心装备。全球半导体行业离不开它，尤其是那些高端芯片的生产。2023年到2025年，这公司和中国市场的纠葛，闹得沸沸扬扬。
光刻国际顶会，700余位业内人士齐聚深圳
在半导体产业的“微缩竞赛” 中，光刻技术始终是决定芯片性能天花板的关键。从微米级工艺到纳米级突破，从深紫外（DUV）到极紫外（EUV）的技术迭代，它不仅承载着摩尔定律演进的核心动力，更成为全球科技竞争与产业协同的战略焦点。如今，随着芯片应用向人工智能、新能源汽
拍卖行女老板跨界入局、打造“国产光刻设备第一股”，芯碁微装赴港二次IPO
芯碁微装是直写光刻行业的企业，为AI时代的先进信息技术产业提供核心设备。其凭借在核心高精度微纳光刻技术研发以及将自有技术应用于各种创新应用的成熟能力，致力于为全球客户制造、销售及维护直接成像及直写光刻设备。
新凯来+长鑫存储产业链核心企业全景解析
消息一出，股吧里先炸，有人晒订单截图，有人吐槽“又是PPT”，三天后新凯来 quietly 把认证章盖了红印，争论才熄火——原来实验室里的那瓶“空气”真被搬进了产线。
美欧遇新状况？中国打出一张比稀土更关键的牌，美代表紧急喊停
白宫贸易代表在谈判中途突然离席，紧急叫停了原定对中国商品加征100%关税的议程。大西洋彼岸，阿斯麦的工程师们连夜拆解光刻机零部件，试图寻找稀土材料的替代方案——他们发现，哪怕一颗螺丝钉里0.1%的稀土元素缺失，都可能导致整条芯片产线停摆。
技术实力雄厚，光刻胶供应商恒坤新材发展潜力十足！
随着半导体材料国产化进程不断加速，光刻胶作为关键核心材料成为众多半导体企业争相布局的领域。厦门恒坤新材料科技股份有限公司（以下简称：恒坤新材）在该领域不断发力，取得了令人瞩目的成绩。
【2025湾芯展】撬动湾区百亿 “芯” 增量！
当人工智能掀起技术革命，5G、智能汽车、物联网加速融入生活，半导体作为 “科技基石” 的地位愈发凸显。如今走进任意一家科技企业，各类智能设备中几乎都有芯片在飞速运转，半导体行业已融入全球科技生态，却也面临着设备陈旧、供应链依赖、同质化竞争等多重痛点。
南开大学张磊教授ACS Nano：烯基/硫醇共功能化钛氧纳米簇实现协同光刻，提升分辨率和灵敏度
在半导体、能源和催化等领域，二氧化钛作为一种重要的纳米材料，因其优异的导电性、高介电常数和低成本而备受关注。然而，由于钛氧化物材料在溶解性、成膜能力及光刻反应性方面的不足，其直接应用于纳米图案化技术一直面临重大挑战。特别是在当前极端紫外和电子束光刻技术快速发展
iQOO 15官宣：10月20日发布
站长之家（ChinaZ.com）10月9日 消息:今日，iQOO官方正式对外宣布，备受期待的iQOO15将于10月20日19:00在深圳盛大发布。值得注意的是，此次iQOO跳过了14的命名，直接从iQOO13跃升至iQOO15。官方强调，这并非产品型号名的简单
IWAPS 2025 | 第九届国际先进光刻技术研讨会日程公布
第九届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS）将于10月14-15日在深圳隆重举行！本次研讨会由中国集成电路创新联盟、中国光学学会主办，中国科学院微电子研究所、深圳市半导体与集成电路产业联盟（深芯盟）、南京诚芯集成电路技术研究院有限公司联合承办，诚邀全球业界精英共
首发2K三星珠峰屏！iQOO 15预约量突破100万
核心配置上，iQOO 15采用6.85英寸2K三星屏，刷新率为144Hz，搭载高通第五代骁龙8至尊版平台，内置自研电竞芯片Q3，配备7000mAh级超大电池，支持100W有线充，也支持无线充，后置5000万大底三摄，包含一颗5000万潜望长焦，还有封闭式对称双
告别光刻！中科大团队实现量子芯片“内部布线”，发表极低温直写技术 | 光锥读论文
量子计算机、超导芯片等前沿科技，都需要在接近-273°C的极低温下运行。但问题是，这些芯片的控制和读写，目前大多依赖室温下的电子设备——就像你在北极露营，却要靠赤道的遥控器来操控帐篷里的灯。
imec宣布 High NA EUV 光刻技术重大突破！
比利时微电子研究中心（imec）日前发布重大消息，宣布其在高数值孔径极紫外曝光（High NA EUV）单次图形化技术上取得了新的突破性里程碑，代表着High NA EUV图形化能力向A10及更先进逻辑节点迈进的强大实力，同时也强调了Imec在曝光微影技术研发
imec宣布 High NA EUV 光刻技术重大突破
比利时微电子研究中心（imec）日前发布重大消息，宣布其在高数值孔径极紫外曝光（High NA EUV）单次图形化技术上取得了新的突破性里程碑，代表着High NA EUV图形化能力向A10及更先进逻辑节点迈进的强大实力，同时也强调了Imec在曝光微影技术研发
俄罗斯挑战ASML垄断：自主EUV光刻技术路线图剑指2037年
俄罗斯科学院微观结构物理研究所近日发布了一项雄心勃勃的极紫外光刻技术发展规划，计划到2037年实现从40纳米到亚10纳米制程的完整技术覆盖。这一战略性布局不仅试图打破荷兰ASML公司在EUV光刻设备领域的绝对垄断，更采用了截然不同的技术路径，力图在全球半导体制
物理学家制造出“世界上最小的小提琴” 或将重塑存储及更多领域
近日，英国拉夫堡大学的物理学家制造出了“世界上最小的小提琴”——一个用铂金打造的微型结构，其大小仅为一根人类头发的宽度。据悉，这把小提琴长35微米、宽13微米，诞生于该校新型纳米光刻系统的展示实验中。为便于理解，1微米等于一百万分之一米，而人类头发直径通常在1
一条高确定性的长周期投资主线！
人工智能热潮下，近期半导体业利好频出，二级市场股价持续表现。虽然周五有所调整，但业内人士认为，科技是长期主线，只要大趋势不破位，调整之后仍是机会，且接下来还能够吃到大肉。展望后市，半导体设备材料的国产化率长期将提升，相关公司业绩提升是大趋势，而在全球半导体景气
刻蚀、离子注入、薄膜、量检测、光刻，设备与工艺的协奏舞台-IC制造发展产业链论坛
IC制造作为先进制造业的核心，一直是推动科技进步与产业升级的关键力量。由SEMI中国主办的“IC制造发展产业链论坛”今日在北京亦庄举行，百名产业专家齐聚，共同聚焦刻蚀、离子注入、ASD、OHT、OVL测量、超精密光刻物镜与绿色机能水七大技术，分享最新突破与产业
华理团队联合打造晶圆级光刻胶沉积技术，成功通过下一代光刻验证
“我们搭建了能在大尺寸晶圆上均匀沉积 10 余种下一代先进光刻胶的技术平台体系，这也是目前全球最早报道的在溶液体系沉积咪唑类金属有机光刻胶的研究之一，并且具备晶圆级规模和纳米级的厚度精度。”近日，华东理工大学“计算传递与原子级制造研究室”庄黎伟教授告诉 Dee